| HS编码 | 名称 |
|---|---|
| 8486104000 | 铜盘抛光机 |
| 8486104000 | 表面抛光机 |
| 8486104000 | 表面抛光处理设备(旧) |
| 8486104000 | 精密磨抛系统 |
| 8486104000 | 硅片边缘抛光机 |
| 8486104000 | 硅片边抛机(旧) |
| 8486104000 | 硅片单面抛光机 |
| 8486104000 | 硅片制样系统 |
| 8486104000 | 滚磨机 WX-7321 |
| 8486104000 | 晶片铜盘抛光机（旧） |
| 8486104000 | 晶片双面抛光机（旧） |
| 8486104000 | 晶片化学机械抛光机（旧） |
| 8486104000 | 晶圆抛光机 |
| 8486104000 | 晶圆化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | 抛光机（旧） |
| 8486104000 | 抛光机 |
| 8486104000 | 单面抛光机/SILTEK/CMP抛光 |
| 8486104000 | 单面抛光机 |
| 8486104000 | 单晶柱化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | 半导体抛光机 |
| 8486104000 | 化学机械研磨机（旧） |
| 8486104000 | 化学机械研磨机 |
| 8486104000 | 化学机械抛光设备/APPLIED/有效 |
| 8486104000 | 化学机械抛光设备(旧)97年产,已用21年,还可用7年 |
| 8486104000 | 化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | 化学机械抛光研磨机 |
| 8486104000 | 化学机械抛光机（旧） |
| 8486104000 | 化学机械抛光机 （旧） |
| 8486104000 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) |
| 8486104000 | Gnad61 化学机械抛光设备 |
| 8486104000 | CMP |
工信部备案:粤ICP备2023016857号-1 
粤公网安备 44060602002471号 
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