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当前位置:首页>工具数据>海关编码HSCODE>第八十四章 核反应堆、锅炉、机器、机械器具及其零件

8486202900 其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备

HS编码名称
8486202900高速模组化贴装机
8486202900高真空脉冲激光沉积系统(主机)
8486202900钝化系统
8486202900金属溅镀机
8486202900金属有机化合物化学气相沉积装置
8486202900遥控器薄膜按键
8486202900贴膜机
8486202900贴片机
8486202900表面质量增强设备
8486202900薄膜沉积设备
8486202900蓝膜贴片机(旧)
8486202900自动焊膏印刷机
8486202900脉冲激光分子束外延系统
8486202900紫外线固化机
8486202900研磨机
8486202900电镀膜沉积装置
8486202900电子束蒸发薄膜沉积系统
8486202900电子束蒸发机(旧)
8486202900氧化处理腔
8486202900有机金属化学反应沉积系统;控制薄膜成长过程;华昌贰号
8486202900有机物及金属沉积系统
8486202900晶片感光液涂布装置
8486202900微型压膜机
8486202900多晶硅淀积炉
8486202900叠对量测机
8486202900半导体成型治具
8486202900分子束外延系统;制备半导体材料;植被半导体或其他薄膜材料;RIBER
8486202900分子束外延沉积装置
8486202900分子束外延
8486202900其他制造半导体器件或集成电路用薄膜沉积设备
8486202900全自动芯片贴膜机 展示用
8486202900全自动压膜机
8486202900光阻涂布机(TEL牌)
8486202900光阻涂布机
8486202900光刻机
8486202900丝印机
8486202900PECVD硅片镀膜下料机(旧)
8486202900PECVD硅片镀膜上料机(旧)
8486202900Parylene沉积系统;在物体表面沉积一层分子膜,膜层可用于表面防护,改善表面特性,表面介质等;制备各种物质薄膜;SCS
8486202900MOCVD设备
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