| HS编码 | 名称 |
|---|---|
| 8486302200 | 高透导电膜5层成膜装置 |
| 8486302200 | 高透导电膜1层成膜装置 |
| 8486302200 | 阵列磁控溅射机 |
| 8486302200 | 镀膜机/制造平板显示器专用 |
| 8486302200 | 金属溅镀沉积设备 |
| 8486302200 | 蒸镀机 |
| 8486302200 | 蒸发装置 |
| 8486302200 | 磁控溅射镀膜设备 |
| 8486302200 | 磁控溅射设备 |
| 8486302200 | 真空镀膜设备 |
| 8486302200 | 电子束蒸发装置 |
| 8486302200 | 物理气相沉积装置（铟锡氧化物） |
| 8486302200 | 物理气相沉积装置 |
| 8486302200 | 溅射机 |
| 8486302200 | 氧化物物理气象沉积机 |
| 8486302200 | 旧PVD真空镀膜机 |
| 8486302200 | 多靶磁控溅射镀膜系统;将靶材上的材料均匀沉积到器件上;利用等离子体溅射原理,用于半导体器件;丹顿 |
| 8486302200 | 制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD) |
| 8486302200 | 制造平板显示器物理气相沉积装置 |
工信部备案:粤ICP备2023016857号-1 
粤公网安备 44060602002471号 
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