| HS编码 | 名称 |
|---|---|
| 8486202100 | 减反射膜制造设备 |
| 8486202100 | 低压化学气相沉积装置(旧)01年产,已用17年,还可用8年 |
| 8486202100 | 低压化学气相沉积氧化锌镀膜系统 |
| 8486202100 | TCO化学气相沉积系统 |
| 8486202100 | PECVD设备(旧) |
| 8486202100 | PECVD硅片镀膜机(旧) |
| 8486202100 | PECVD沉积设备(等离子增强化学气相沉积系统) |
| 8486202100 | PECVD化学气相沉积设备 |
| 8486202100 | PECVD减反射膜制造设备 |
| 8486202100 | PECVD 减反射膜制造设备 |
| 8486202100 | IC淀积炉 |
| 8486202100 | CVD |
| 8486202100 | C-1淀积炉 |
| 8486202100 | (旧)常压化学气相沉积设备 |
工信部备案:粤ICP备2023016857号-1 
粤公网安备 44060602002471号 
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