| HS编码 | 名称 |
|---|---|
| 8486202200 | 射频发生器(PVD装置用)20# |
| 8486202200 | 多功能离子束联合溅射系统 |
| 8486202200 | 喷胶机 |
| 8486202200 | 半导体金属离子PVD蒸发系统/2004年产/七成新 |
| 8486202200 | 半导体行业用金属溅射设备 |
| 8486202200 | 半导体用物理气相沉积设备(旧) |
| 8486202200 | 半导体PVD真空溅射镀膜机/2006年产/七成新 |
| 8486202200 | 前电极磁控溅射沉积系统 |
| 8486202200 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 |
| 8486202200 | 分子束外延腔体组件 |
| 8486202200 | 全自动磁控离子溅射仪 |
| 8486202200 | 介质膜蒸镀机上的镀锅 |
| 8486202200 | 二氧化碳发泡机 |
| 8486202200 | 丹顿真空磁控离子溅射台溅射成膜 |
| 8486202200 | WB3100焊线机 |
| 8486202200 | PVD磁控溅射镀膜线 |
| 8486202200 | PVD |
工信部备案:粤ICP备2023016857号-1 
粤公网安备 44060602002471号 
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